材質	塑料	規格型號	DS-N21
允許誤差	0.1（ml）	容量	265（ml）
生產廠家	廣州二輕研究所

一.簡介   265mL   
    哈氏試驗槽(Haring cell)是用于測定鍍金液的均一電著性， 陰板置于兩端可移動陽板置于中間任何定點，以測定陽 到兩陰的電流分配之比較金屬析出量之比。
　 在原始的發明中，槽的尺寸為長度60cm,寬度10cm， 高度10cm,鍍液量6000cc。由槽的尺寸及液量，可知在試驗 前的建浴，試驗中的(連續過濾)液體凈化，鍍液攪拌的均勻度 及溫度的均一控制等操作，如果沒有優良的輔助器具，將難 于設定的操作標準。因而影響到試驗的準確性，因此為 求得空間的節省、槽的清洗、鍍液分配及凈化等操作之方便 ，遂有265ML等改良型這哈林試驗槽之出現。

二.哈林試驗
　　哈林試驗為測定電流分配比(P)與金屬析出比(M)之關系， 而以百分比表示均一電著性(Ｔ)之試驗。均一電著性良好時為 正，不良時為負，其表示法有數種，通常適用于Ｆield公式，其計算法如下：

      均一電著性Ｔ(%)=(Ｐ1-M)/(P+M-2)*100

      Ｐ：(liner ratio)電流分配比，以距離比的倒數表示，
      Ｍ：(Metal ratio)金屬析出比，
      注：陽板亦有使用孔狀或網狀者．(以利鍍液流通、均勻) 三.均一電著性之影響
　　在電鍍過程里由外觀來說，均一電著性將可得到更 平整的鍍膜，得以產品的美觀及附加價值。就生產 管理而言，將節省許多的經費，并擴大產量。 　　舉例來說：（例一）有一個電路板鍍金手指的生產業者 ，他的客戶要求在金手指上鍍５um之黃金，但是他發現，如 果要使金手指中間低電流域５um時，兩端高電流區域之 厚度已１０－１２um，話說回來，如果應用哈林槽試驗 來鍍液的電著均一性，將使高低電流區域之鍍膜厚度更 加平均．這樣不但可縮短電鍍時間擴大產量還可節省金屬鹽之消耗，經累計，那將是一筆可觀的金錢．
　（例二）有一性酸性鍍鋅者，購得某（大廠牌）的酸性鋅光澤劑經滾桶試鍍后，外觀的漂亮，但在后處理的鉻酸鹽液處理后，螺絲牙縫內露出基材－鐵，這時他還是很信任（大廠牌）于是再試一延長電鍍時間，加強過 濾，降低鉻酸鹽之酸含量及浸漬時間之縮短，清潔匯流排（集電導線）調整PH值．．．等，一連幾天問題依舊，后 換了另一家廠牌的建浴配方及光澤劑才使問題解決。在這個 例子里，螺絲牙縫（低電流）及牙尖（高電流）的電著厚度 相差很大，都是均一性不良造成的，因此可的說這個大 廠牌在開發過程中忽略了哈林試驗的重要，導致信譽受損。 又如果我們的業者能在購入化學品前，將樣品預做哈林試驗 也就不會虛擲了時間和人力。
　　由以上簡例我們得知哈林試驗－均一電著性之重要性，這提供我們鍍液的開發改良及生產工程上的均一性管理。在 研究上藉此開發出優良的配方產業水準，在生產管理 上利用此測知鍍液中的各種鹽類（金屬鹽、導電鹽、緩沖鹽 添加劑），ＰＨ值，溫度…　等之變化，對均一性之改變及 影響．
　　有許多業者認為，哈氏試驗槽(HUIIC-EII)已可解決他們 許多研究生管理上的困擾.這是我們都同意的視點,但是在均一 電著性之試驗及應用上,哈氏槽實在很難得到客觀的比較標準 ,因此才有哈林試驗槽的發明及應用. 謹簡咯說明哈林試驗槽之應用,吾等鍍金工業之水準 是唯所盼.