- 產品品牌：
- 聚亮
- 產品型號：
- CW2010-Z
- 產品用途：
- 微距測量
- 測量范圍：
- 35MM
CW2010—Z Z軸非接觸式測量儀 一、特點: 以裂像聚焦指示器為測量原理, 采用高光學聚焦點檢測方式進行非接觸高低差測量。不僅可以對準目標影像, 還能觀察測量點的表面狀態,對高度,深度,高低差等進行測量。本儀器的各種鏡筒還具有明暗場，微分干涉，金相，偏光等多種觀察功能。所以對極細微的間隙高低差，夾雜物、微米以下的突起、細微劃痕、以及金相組織進行觀察。 二、用途：適用于硅片、IC、LCD、TFT、PCB、MEMS激光加工、晶片測試、半導體材料、線束加工蝕刻、液晶電池蓋、導線框架等產品的檢查觀察.也適用于經過磨拋、化學處理的工件表面的金相組織結構，幾何形狀進行顯微觀測。并且有三維的測量功能，其解析率達0.0005mm。因此是精密零件，集成電路，半導體芯片，光伏電池，光學材料等行業的必用儀器。 三、主要規格 1. 鏡筒：鉸鏈式三目頭部 30°傾斜 270°旋轉 2. 高眼點平場目鏡: WF10X/22 3. 平場復消色差物鏡：(可根據使用需求選擇不同倍率的物鏡)
| f=200mm用全平場復消色差物鏡/M Plan APO | ||||||
| 物鏡數據 | ||||||
| 倍率 | 2X | *5X | *10X | *20X | 50X | 100X |
| NA | 0.055 | 0.14 | 0.28 | 0.42 | 0.55 | 0.55 |
| W.D(mm) | 34 | 34 | 33.5 | 20 | 13 | 13 |
| 焦點距離(mm) | 100 | 40 | 20 | 10 | 4 | 2 |
| 分解率(µm) | 5 | 2 | 1 | 0.7 | 0.5 | 0.5 |
| 焦深(µm) | 91 | 14 | 3.58 | 1.6 | 0.9 | 0.9 |
